政治雷達 › 法律 › 半導體製造業空氣污染管制及排放標準 › 第7條

半導體製造業空氣污染管制及排放標準 第7條

既存製程未能符合第四條排放標準或第五條設置規定者,公私場所應於本標準修正施行後六個月內,檢具空氣污染改善計畫,向直轄市、縣(市)主管機關申請核定改善期限,並應於期限屆滿前完成改善至符合本標準之規定。 前項空氣污染改善計畫至少應包含製程原(物)料、設施或防制設備改善種類、構造、效能、流程、設計圖說、設置經費及進度,且其改善期限不得逾十八個月。 未能於第一項核定改善期限內完成改善者,公私場所得於期限屆滿前一至三個月內,檢具展延說明、規劃及變更改善計畫,向直轄市、縣(市)主管機關申請核准展延改善期限,展延之改善期限不得逾十二個月。但展延改善經直轄市、縣(市)主管機關另予核准改善期限者,不在此限。
AI 白話解釋

同章節的其他條文

第2條本標準用詞及符號,定義如下:一、半導體製造業:指從事積體電路晶圓製造、晶圓封裝、磊晶、光罩製…第3條本標準適用於半導體製造業。但半導體製造業原(物)料年用量小於下表所列者,該項物質不適用本標準…第4條半導體製造業產生之空氣污染物應經密閉集氣系統收集,並應符合下表規定後始得排放:前項硝酸、鹽酸…第5條依前條規定收集之廢氣,於污染防制設備之廢氣導入處或排放管道排放口應設置流量計及濃度監測器,其…第6條揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸等之紀錄、保存與申報規定如下:一、空氣…第8條本標準自發布日施行。
← 第6條看 半導體製造業空氣污染管制及排放標準 全文第8條 →
資料來源:法務部全國法規資料庫(開放資料)。AI 白話僅供理解,正式適用以官方條文為準。