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光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準 第8條

光電業裝設污染防制設備處理空氣污染物至符合第四條排放標準規定者,其流量計及污染防制設備之監測設施規定如下: 一、污染防制設備之揮發性有機物廢氣導入處或排放口應設置氣體流量計;濕式洗滌設備之洗滌水循環管線應設置液體流量計。 二、污染防制設備應設置操作運轉條件之監測設施,並應依附表所列項目及頻率進行記錄。 三、監測設施之每季有效監測時數百分率應大於百分之八十。氣體流量計及液體流量計每年應校正一次。 前項污染防制設備操作運轉紀錄應保存五年備查。 第一項流量計及監測設施因故無法設置者,得提出替代監測方案,報請地方主管機關核可。
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第2條本標準專有名詞及符號定義如下:一、光電材料及元件製造業(以下簡稱光電業):指從事液晶面板製造…第3條本標準適用於光電業之煙道排氣,管制空氣污染物項目為揮發性有機物、氫氟酸及鹽酸。第4條光電業排放之空氣污染物應經密閉排氣系統收集,並應符合下表規定後始得排放:┌───┬─────…第5條前條排放標準之適用規定,應於申請固定污染源操作許可證時,併同空氣污染物排放檢測報告提出,並經…第6條光電業使用含揮發性有機物、氫氟酸或鹽酸之原物料種類、含量百分比、購入量、使用量、輸出量等資料…第7條排放管道之空氣污染物監測及檢測作業應符合下列規定:一、揮發性有機物單位小時許可排放量達一.三…第9條既存製程應自中華民國九十六年一月一日起符合本標準規定。第10條本標準除另定施行日期者外,自發布日施行。
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資料來源:法務部全國法規資料庫(開放資料)。AI 白話僅供理解,正式適用以官方條文為準。