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揮發性有機物空氣污染管制及排放標準 第30條

第 六 章 設備元件
公私場所設備元件之洩漏管制規定如下: 一、設備元件軸封處之製程流體包括重質液及輕質液,製程流體滴漏每分鐘不得超過三滴。 二、設備元件之淨檢測值不得大於一萬ppm;並自中華民國一百十四年一月一日起設備元件之淨檢測值不得大於一千ppm。但經主管機關稽查檢測設備元件之淨檢測值大於一千ppm且小於五千ppm,自發現時起二十四小時內完成修護者,不在此限。 三、開口閥之下游端應裝設栓蓋、盲法蘭、栓塞或二次閥以封止其開口端。但實際操作中製程流體需自開口閥排出者,不在此限。 四、輕質液及氣體取樣連接系統應符合下列規定之一: (一)取樣連接系統裝設有密閉集氣系統連通至污染防制設備,且該污染防制設備符合第三十一條第一項第八款之規定。 (二)採用密閉迴路式取樣連接系統。 (三)採用線上取樣分析系統者。 前項第一款及第二款不適用已依第三十三條第一項第二款規定標示標籤,且依第三十二條規定期限內修護之設備元件。
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「設備元件」的其他條文

第29條本章適用對象為公私場所具有石化製程、第十五條規定揮發性有機液體儲槽或第二十四條規定揮發性有機…第31條公私場所應完成設備元件建檔,並依下列規定進行設備元件洩漏檢查(測):一、輕質液泵浦應每週目視…第32條公私場所應依下列規定進行設備元件修護:一、設備元件經發現為洩漏源者,應於發現時起二十四小時內…第33條公私場所應依下列規定進行設備元件洩漏檢查(測)之紀錄、保存及申報:一、設備元件之定期檢查(測…第34條芳香烴製造程序、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚合物化學製造程序、苯乙烯化學製造程序所屬設備元件,…第35條製程釋壓裝置應以密閉集氣系統收集連通至污染防制設備或燃料系統。但有下列情形之一者,不在此限:…第36條石化製程設備元件污染防制設備之流量計及連續自動監測設施適用第十四條之規定。
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資料來源:法務部全國法規資料庫(開放資料)。AI 白話僅供理解,正式適用以官方條文為準。